““未来几年，这将直接影响包括管理委员会在内的高层管理人员的薪酬，”富凯写道。”
克里斯托夫·富凯 Christophe Fouquet
ASML · 首席执行官
ASML 掌门人，谈 EUV、光刻产能与出口管制。
3 条发言5月5日 – 10月23日
“从价格看，EUV 系统会比低数值孔径（low-NA）系统更贵，但在某些先进层上用这台设备制造晶圆的成本会更低。我们可以实现 20%、30% 的成本下降。”
“很多人问我，它是在这个月、下个月还是再下个月推出。我通常说，这并不重要，因为我们设计高数值孔径（high-NA）时着眼的是未来 10 年、20 年。”